SAURE KUPFERBAEDER. HERSTELLUNG UND STRUKTUR GLAENZENDER KUPFERUEBERZUEGE AUS SCHWEFELSAUREN ELEKTROLYTEN = ACID COPPER ELECTROLYTES. MANUFACTURE AND STRUCTURE OF GLOSSY COPPER COATINGS FROM SULFURIC ACID CONTAINING ELECTROLYTESRASHKOV S; STOICHEV DS.1980; GALVANOTECHNIK; DEU; DA. 1980-03; VOL. 71; NO 3; PP. 225-230; BIBL. 22 REF.Article

DEPOT DE CU A PARTIR DE BAINS AU SULFATERASHKOV S; STOJCHEV DS.1976; IZVEST. KHIM.; BALG.; DA. 1976; VOL. 9; NO 4; PP. 633-652; ABS. ANGL.; BIBL. 24 REF.Article

TEXTURE AND MORPHOLOGY OF NICKEL COATINGS DEPOSITED IN THE PRESENCE OF SURFACTANTSRASHKOV S; ATANASOV N.1975; ELECTRODEPOS. SURF. TREATM.; SWITZ.; DA. 1975; VOL. 3; NO 2; PP. 105-120; BIBL. 38 REF.Article

THE KINETICS AND MECHANISM OF THE ANODIC DISSOLUTION OF PHOSPHORUS-CONTAINING COPPER IN BRIGHT COPPER PLATING ELECTROLYTES = CINETIQUE ET MECANISME DE LA DISSOLUTION DU CU-P DANS LES ELECTROLYTES DE CUIVRAGERASHKOV S; VUCHKOV L.1981; SURF. TECHNOL.; ISSN 0376-4583; CHE; DA. 1981; VOL. 14; NO 4; PP. 309-321; BIBL. 18 REF.Article

EFFET DE QUELQUES AGENTS DE SURFACE SUR LE PROCESSUS DE DEPOT ELECTROLYTIQUE DE CUSTOJCHEV DS; RASHKOV S.1976; IZVEST. KHIM.; BALG.; DA. 1976; VOL. 9; NO 4; PP. 618-632; ABS. ANGL.; BIBL. 34 REF.Article

EFFET DE CERTAINS AGENTS DE BRILLANTAGE DE 1ERE ET DE 2EME CLASSE SUR LA TEXTURE ET LA MORPHOLOGIE DES DEPOTS DE NIATANASOV N; RASHKOV S.1974; BALG. AKAD. NAUK., IZVEST. OTDEL. KHIM. NAUKI; BALG.; DA. 1974; VOL. 7; NO 4; PP. 809-821; H.T. 4; ABS. ANGL.; BIBL. 19 REF.Article

DEPOT DE CU A PARTIR DE BAIN SULFURIQUERASHKOV S; STOJCHEV DS.1976; IZVEST. KHIM.; BALG.; DA. 1976; VOL. 9; NO 4; PP. 653-667; ABS. ANGL.; BIBL. 10 REF.Article

ETUDE DE L'EFFET DES IONS D'IODE SUR LA TEXTURE ET LA MORPHOLOGIE DES DEPOTS DE NIRASHKOV S; ATANASOV N.1974; BALG. AKAD. NAUK., IZVEST. OTDEL. KHIM. NAUKI; BALG.; DA. 1974; VOL. 7; NO 4; PP. 797-808; H.T. 6; ABS. ANGL.; BIBL. 35 REF.Article

EFFECT OF SOME ADDENDS ON THE ELECTROLYTIC DEPOSITION AND STRUCTURE OF COPPER COATINGS FROM ACID SOLUTIONSSTOICHEV DS; RASHKOV S.1973; C.R. ACAD. BULG. SCI.; BULG.; DA. 1973; VOL. 26; NO 2; PP. 243-246; BIBL. 9 REF.Serial Issue

STRESSED ELECTROLYTICALLY DEPOSITED BRIGHT NICKEL COATINGS OBTAINED DURING THE CATHODIC FORMATION AND DECOMPOSITION OF NICKEL HYDRIDE IN ACIDIC MEDIA = DEPOTS ELECTROLYTIQUES BRILLANTS AVEC CONTRAINTES OBTENUS PAR DECOMPOSITION DE L'HYDRURE DE NI EN MILIEU ACIDERASHKOV S; MONEV M; ATANASSOV N et al.1982; SURFACE TECHNOLOGY; ISSN 0376-4583; CHE; DA. 1982; VOL. 17; NO 4; PP. 309-314; BIBL. 10 REF.Article

DETERMINATION DE LA TAILLE DES CRISTAUX X-NI ELECTRODEPOSESTOMOV I; STOJCHEV DS; RASHKOV S et al.1976; IZVEST. KHIM.; BALG.; DA. 1976; VOL. 9; NO 2; PP. 254-264; ABS. ANGL.; BIBL. 20 REF.Article

SOME POSSIBILITIES FOR THE USE OF STRESSED CATHODICALLY HYDROGENATED ELECTROLYTIC NICKEL COATINGS FOR THE DEPOSITION OF MICROPOROUS AND MICROCRACKED CHROMIUM PLATES = POSSIBILITE D'UTILISATION DE REVETEMENTS DE NI PRECONTRAINTS, CHARGES EN H₂, POUR LE DEPOT DE CR MICROPOREUX ET MICROFISSURESRASHKOV S; MONEV M; ATANASSOV N et al.1983; SURFACE TECHNOLOGY; ISSN 0376-4583; CHE; DA. 1983; VOL. 18; NO 3; PP. 217-223; BIBL. 20 REF.Article

ELECTROCHEMICAL FORMATION AND DISINTEGRATION OF THE NI-H PHASE IN BRIGHT NICKEL COATINGS = FORMATION ELECTROCHIMIQUE ET DECOMPOSITION DE LA PHASE NI-H DANS LES REVETEMENTS DE NICKEL BRILLANTRASHKOV S; MONEU M; TOMOV I et al.1982; SURF. TECHNOL.; ISSN 0376-4583; CHE; DA. 1982; VOL. 16; NO 3; PP. 203-208; BIBL. 8 REF.Article

SPIRAL CRACKING OF CATHODICALLY HYDROGENATED BRIGHT NICKEL ELECTRODEPOSITED COATINGS = FISSURATION EN SPIRALE DES DEPOTS BRILLANTS DE NIMONEV M; RASHKOV S; KAISCHEV R et al.1982; SURFACE TECHNOLOGY; ISSN 0376-4583; CHE; DA. 1982; VOL. 17; NO 4; PP. 315-320; BIBL. 9 REF.Article

APPAREIL POUR MESURER LES CONTRAINTES INTERNES DANS LES REVETEMENTSPOPOV D; DOBREV D; RASHKOV S et al.1975; IZVEST. KHIM.; BALG.; DA. 1975; VOL. 8; NO 4; PP. 581-588; ABS. ANGL.; BIBL. 26 REF.Article

THE RELATION BETWEEN THE ADSORPTION OF SURFACE-ACTIVE ADDITIVES AND THE BRIGHTNESS OF ELECTROLYTICALLY DEPOSITED COPPER COATINGS = CORRELATION ENTRE L'ADSORPTION DES ADDITIFS SUPERFICIELS ACTIFS ET LE BRILLANT DES REVETEMENTS DE CUIVRE DEPOSES ELECTROLYTIQUEMENTSTOYCHEV DS; VITANOVA I; VITANOV et al.1980; SURF. TECHNOL.; ISSN 0376-4583; CHE; DA. 1980; VOL. 10; NO 3; PP. 209-217; BIBL. 23 REF.Article

MECANISME DE LA DISSOLUTION DU CUIVRE CONTENANT DU PHOSPHORE DANS LES BAINS DE DEPOT ELECTROLYTIQUE BRILLANT EN MILIEU ACIDEVUCHKOV L; RAJCHEVSKI G; RASHKOV S et al.1978; IZVEST. KHIM.; BGR; DA. 1978; VOL. 11; NO 1; PP. 1-9; ABS. ENG; BIBL. 5 REF.Article

TEXTURE DE REVETEMENTS DE NICKEL DEPOSES PAR ELECTROLYSETOMOV I; UZUNOVA I; RASHKOV S et al.1974; BALG. AKAD. NAUK., IZVEST. OTDEL. KHIM. NAUKI; BALG.; DA. 1974; VOL. 7; NO 2; PP. 177-187; ABS. ANGL.; BIBL. 16 REF.Article

THE ELECTROCHEMICAL BEHAVIOUR OF CHROMIUM PLATES IN SULPHURIC ACID MEDIA IN THE PRESENCE OF SELENITE IONS = COMPORTEMENT ELECTROCHIMIQUE DES DEPOTS DE CR DANS H₂SO₄ EN PRESENCE D'IONS SERASHKOV S; MONEV M; RAICHEVSKI G et al.1983; SURFACE TECHNOLOGY; ISSN 0376-4583; CHE; DA. 1983; VOL. 18; NO 3; PP. 209-216; BIBL. 16 REF.Article

APPLICATION DE L'INTERFEROMETRIE SUR LE NIVELLEMENT ELECTROLYTIQUE DANS LES BAINS DE CUIVRAGE ACIDEMIKROVA L; NANEV KH; RASHKOV S et al.1977; IZVEST. KHIM.; BALG.; DA. 1977; VOL. 10; NO 3; PP. 386-394; ABS. ANGL.; BIBL. 3 REF.Article

VARIATION DE QUELQUES CARACTERISTIQUES STRUCTURALES AVEC L'EPAISSEUR DE DEPOTS DE NI TEXTURES <211>ATANASOV N; VITKOVA S; RASHKOV S et al.1977; IZVEST. KHIM.; BALG.; DA. 1977; VOL. 10; NO 2; PP. 247-263; ABS. ANGL.; BIBL. 22 REF.Article

INFLUENCE OF CURRENT DENSITY AND TEMPERATURE ON THE MORPHOLOGY AND PREFERRED ORIENTATION OF ELECTRODEPOSITED COPPER COATINGSRASHKOV S; STOICHEV DS; TOMOV I et al.1972; ELECTROCHIM. ACTA; G.B.; DA. 1972; VOL. 17; NO 11; PP. 1955-1964; H.T. 3; ABS. FR. ALLEM.; BIBL. 31 REF.Serial Issue

INFLUENCE DE J ET DE T SUR LA MORPHOLOGIE ET L'ORIENTATION PREDOMINANTE DE REVETEMENTS DE CU DEPOSES PAR ELECTROLYSERASHKOV S; STOJCHEV DS; TOMOV I et al.1972; BALG. AKAD. NAUK., IZVEST. OTDEL. KHIM. NAUKI; BALG.; DA. 1972; VOL. 5; NO 2; PP. 217-229; H.T. 2; ABS. ANGL.; BIBL. 28 REF.Serial Issue

THE LEVELLING MECHANISM DURING BRIGHT ACID COPPER PLATING = MECANISME DE NIVELLEMENT ELECTROLYTIQUE DURANT LE CUIVRAGE BRILLANTMIRKOVA L; RASHKOV S; NANEV C et al.1982; SURF. TECHNOL.; ISSN 0376-4583; CHE; DA. 1982; VOL. 15; NO 3; PP. 181-190; BIBL. 15 REF.Article

INFLUENCE OF THE ANODIC FILM ON THE KINETICS AND MECHANISM OF THE DISSOLUTION OF COPPER ANODES IN BRIGHT ACID COPPER PLATING = EFFET DU FILM ANODIQUE SUR LA CINETIQUE ET LE MECANISME DE DISSOLUTION DES ANODES DE CU DANS UNE SOLUTION DE CUIVRAGE BRILLANT ACIDERASHKOV S; VUCHKOV L; RAICHEVSKI G et al.1978; IZVEST. KHIM.; BGR; DA. 1978 PUBL. 1979; VOL. 11; NO 3-4; PP. 459-466; ABS. BUL; BIBL. 9 REF.Article